化學檢測-表麵分析

概述

表麵科學研究的是表麵和與(yu) 表麵有關(guan) 的宏觀和微觀過程，從(cong) 原子水平認識和說明表麵原子的化學、幾何排列、運動狀態、電子態等性質及其與(yu) 表麵宏觀性質的聯係。表麵分析的主要內(nei) 容有：

（1）表麵化學組成：表麵元素組成，表麵元素的分布，表麵元素的化學態，表麵化學鍵，化學反應等；可用技術：XPS（X- ray Photoelectron Spectroscopy，X射線光電子能譜）、AES（Auger Electron Spectroscopy，俄歇電子能譜）、SIMS（Secondary Ion Mass Spectroscopy，二次離子質譜）、ISS（ Ion Scattering Spectroscopy，離子散射譜）。

（2）表麵原子結構：表麵層原子的幾何配置，確定原子間的精確位置。表麵弛豫，表麵再構，表麵缺陷，表麵形貌；可用技術：LEED（Low Energy ElectronDiffraction，低能電子衍射）、RHEED（Reflection High - Energy Electron Diffrac-tion，反射式高能電子衍射）、EXAFS（Extended X- ray Absorption Fine Structure，擴展X射線吸收精細結構譜）、SPM（Scanning Probe Microscope，掃描探針顯微鏡）、FIM（Field Ion Microscope，場離子顯微鏡）。

（3）表麵原子態：表麵原子振動狀態，表麵吸附（吸附能、吸附位）、表麵擴散等；可用技術：EELS（Electron Energy Loss Spectroscopy，電子能量損失譜）、RAIRS（Reflection Absorption InfraRed Spectroscopy，反射吸收紅外譜）。

（4）表麵電子態：表麵電荷密度分布及能量分布（DOS）、表麵能級性質、表麵態密度分布、價(jia) 帶結構、功函數、表麵的元激發。可用技術：UPS（UltravioletPhotoelectron Spectroscopy，紫外光電子能譜）、ARPES（Angle Resolved PhotoEmis-sion Spectroscopy，角分辨光電子能譜）、STM（Scanning Tunneling Microscope，掃描隧道顯微鏡）。

20世紀60年代全金屬超高真空（UHV）技術商品化後，極大地促進了表麵和界麵科學的發展，開發了多種表麵分析技術，這些技術覆蓋了電子和離子譜、表麵結構測定方法以及原子成像方法等，可用以從(cong) 原子、分子的微觀尺度七獲取更多表麵組成與(yu) 性質的基本知識。白70年代以來，隨著世界範匍內(nei) 的半導體(ti) 工業(ye) 、微電子技術和航天技術的興(xing) 起，對表麵、界麵科學和分析的重視和需求達到r李前的地步，也推動了表麵科學和技術的迅速和持續發展。表麵發生的過程對從(cong) 半導體(ti) 技術到異相催化等各個(ge) 領域具有極大的實用性和重要意義(yi) ，對同體(ti) 表麵相關(guan) 的問題的研究逐漸成為(wei) 基礎科學研究的前沿。

分類: 1. 表麵形貌分析

      2. 表麵成分分析

      3. 表麵化學狀態分析

      4. 表麵顏色、色差測試

      5. 表麵相結構分析

      6. 表麵應力分析

      7. 表麵粗糙度測試

      8. 表麵異物分析

      9. 表麵失效分析

     10.表麵處理工藝判斷